Plonos plėvelės rezistoriaus terminis apdorojimas

Shenzhen Shenchuang Hi-tech Electronics Co., Ltd (SChitec) yra aukštųjų technologijų įmonė, kuri specializuojasi telefonų priedų gamyboje ir pardavimuose. Mūsų pagrindiniai produktai yra kelionių įkrovikliai, automobiliniai įkrovikliai, USB kabeliai, maitinimo blokai ir kiti skaitmeniniai produktai. Visi produktai yra saugūs ir patikimi, turi unikalų stilių. Produktai turi sertifikatus, tokius kaip CE, FCC, ROHS, UL, PSE, C-Tick ir kt. , Jei jus domina, galite tiesiogiai susisiekti su ceo@schitec.com.

Saugiai kraukitės naudodami SCHitec

Plonos plėvelės rezistoriaus terminis apdorojimas

Atsparios plėvelės terminio apdorojimo tikslas yra sudaryti tam tikrą skaičių izoliacinių fazių plėvelėje, kad būtų pagerintas plėvelės temperatūros rodiklis ir ilgalaikis stabilumas. Atsparios plonos plėvelės gamybos procesas paprastai yra aukšta temperatūra ir trumpas laikas, todėl išsaugoma daug nesubalansuotų defektų ir kai kurios metastabilios struktūros, todėl šie defektai palaipsniui išnyksta ir metastabilios būsenos transformuojasi ilgo darbo metu. plonos plėvelės procesas, o plonos plėvelės veikimas palaipsniui keičiasi. Termiškai apdorojant, kai kurie nusodinimo procese susidarę išnirimai gali išsikelti į paviršių ir išnykti, mažėja grūdų ribos defektų skaičius. Dėl to labai pagerėja plėvelės struktūra, plėvelė keičiasi iš metastabilios būsenos į stabilią būseną, o plėvelės veikimas paprastai būna stabilus. Be to, kadangi plėvelė ir substratas dažnai yra dvi skirtingos medžiagos, sąsajoje neišvengiamai įvyks abipusė difuzija ir cheminė reakcija, dėl kurios laipsniškai pasikeis atsparios plėvelės savybės. Panašiai ir plėvelės paviršiuje plėvelės savybės laikui bėgant keičiasi dėl difuzijos ir reakcijos.

Iš to, kas išdėstyta, matyti, kad atsparios plėvelės veikimas be terminio apdorojimo nėra pakankamai stabilus, todėl būtina parinkti tinkamas terminio apdorojimo sąlygas, tokias kaip temperatūra, laikas ir atmosfera. Paprastai tariant, reikia pasirinkti aukštą temperatūrą, nes tik esant aukštai temperatūrai per ribotą terminio apdorojimo laiką plėvelėje gali būti atlikti keli procesai. Tuo pačiu metu ant plėvelės paviršiaus turėtų susidaryti tankus apsauginis sluoksnis. Be tinkamos terminio apdorojimo temperatūros ir laiko, reikia pasirinkti reikiamą terminio apdorojimo atmosferą. Pavyzdžiui, naudokite oksiduojančią arba azotinę atmosferą. Tokiu būdu izoliacijos fazė gali pasiekti ypač smulkią dispersijos struktūrą, pavyzdžiui, smulkią molekulinio tiesiškumo dispersiją, kad plėvelės stabilumas ir temperatūros charakteristikos būtų geriausios.

Elektros medžiagų klasifikacija

Šiuo metu yra daug medžiagų atsparioms plėvelėms gaminti, įskaitant grynus metalus, metalų lydinius, metalų junginius ar kermetus (keramikos ir metalų derinį) ir kt., tačiau monolitiniuose analoginiuose integriniuose grandynuose ir plėvelėse plačiai naudojamos trijų rūšių medžiagos. hibridinės grandinės: nikelio chromas, chromo silicis ir chromo silicio oksido kermetai, tarp kurių nikelio chromas priklauso mažo atsparumo medžiagoms, o chromo silicis ir chromo silicio oksidas – didelio atsparumo medžiagoms Medžiagų mokslas. Pagal skirtingą medžiagų sudėtį dažniausiai naudojamos plonasluoksnės atsparios medžiagos skirstomos į tris tipus: nikelio chromą, chromo silicį ir chromo silicio oksidą.